本实验室以等离子体技术与金刚石薄膜等新材料科学与工程研究为特色，是成都理工大学重点实验室之一。

1、研究进展与特色

　　 化学气相沉积(CVD)金刚石膜从20世纪80年代初由日本科学家取得突破以来，世界各先进国家纷纷投入大量资金和人力进行研究。20世纪80年代中期开始迅速形成全球范围内的"金刚石热"，国外许多知名公司企业和研究单位都纷纷卷入其中。1987年，我国正式启动的“863”计划也旋即卷入这个国际性的热潮之中。
　　 从80年代末以来，中国科学院长沙大地构造研究所和我们在金刚石薄膜这一新材料高科技领域做了大量的工作，先后承担了国家自然科学基金委、中国科学院和省部级一系列重点研究项目，取得了一系列令人鼓舞的重要成果：1992年，采用自主设计的直流弧光放电等离子体化学气相沉积（DC arc discharge Plasma CVD）设备，在单晶硅片上成功制备出高品质的金刚石膜；采用相同的技术及设备成功研制出金刚石涂膜刀具；开展了直流弧光放电等离子体CVD金刚石涂膜中试设备研制及其制备工艺技术研究工作。
　　 目前，金刚石膜化学气相沉积（CVD）的主要技术方法有热丝CVD（HFCVD），微波离子体CVD（MWCVD），燃烧火焰法(flame deposition)，以及直流等离子体喷射（DC arc plasma jet）等，这些方法各有利弊。实验结果表明，与其他方法比较,我们所采用的直流弧光放电等离子体CVD具有很高的沉积速度，并具有金刚石沉积质量好、膜基粘结强度高等特点，显示出了广阔的应用前景。
　　 据查，目前为止，国内外还未曾有采用直流弧光放电等离子体CVD设备技术制备金刚石镀膜刀具的文献报道。因此，采用这一独特方法和技术制备高质量金刚石涂膜工具，是我们在这一新材料高技术领域的特色和优势所在。

2、仪器设备

    本实验室拥有目前国内外唯一的具有自主知识产权的直流弧光放电等离子体CVD金刚石涂膜小试、中试设备各一套，并拥有与之相关的各种测试分析仪器。

3、研究方向和重点

    研究方向：金刚石薄膜与相关材料；
　  研究重点：采用直流弧光放电等离子体CVD技术与设备，开展金刚石薄膜等新材料科学与工程研究，开发金刚石涂膜刀具、钻具与设备等高新技术产品。

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